第573章 光刻技术探讨（2/2）

光刻机一帮是由光源，均匀照明系统、投影物镜系统、机械及控制系统(包括工件台、掩膜台、硅片传输系统等构成。

按照张学东冯长宇祁同文等的说法，国产光刻机，比如已经付华芯进行使用的分步式光刻机，虽说对比国外最先进产品，在技术方面依旧有差距，不过这个差距并不是太大，更不存在代差……

毕竟大家都采用的都是同等理念，分步式投影。

唯一的差别，或许也就是光源了。

听到此处，从到尾一直都没怎么说话的光学投影专家，长光所的龚建亮终于开了。

他表示长光所在最近的研究中有一些心得，表示经过研究，如果能用放电汞灯辐紫外光，应该有希望进一步的降低光源波长，将现在正在应用的高压放电汞灯的光源从极限的365纳米，成功降低到250纳米！

“这是真的吗？”

听到这话，无论是张学东任继宪还是冯长宇都兴奋不已，同时也有些悻悻，埋怨龚建亮怎么不早说……

毕竟近年虽然已经传出西方在光刻机方面的研究，其实已经早就突了微米级，已经在向纳米级发展，但终究还没有实际产品出来。

要长光所能早点告诉大家这个成果，自己尽早将其进行在光刻机上应用，国产光刻机的技术指标那可就能和西方最先进光刻机的技术指标并驾齐驱了！

虽然只是暂时的，但总算是追上过不是？